Betriebsbereite Lieferung einer Magnetronsputteranlage für Dünnschichtmaterialentwicklung

Art der Leistung

Die Universität Kassel schreibt die betriebsbereite Lieferung einer automatisierten Mehrtarget-Magnetronsputteranlage zur Dünnschichtentwicklung aus. Ein besonderer Schwerpunkt liegt auf der Beschichtung von Wafern mit einem Durchmesser von bis zu 150 mm. Die Anlage wird im Reinraum der Universität eingesetzt.

Die Ausstattung umfasst drei 2-Zoll-Magnetronsputterquellen, ein DC-Netzteil mit 500 W und zwei Ausgängen, ein bipolares Pulsed-DC-Netzteil mit 1 kW und zwei Ausgängen sowie drei getrennt regelbare Prozessgasleitungen. Erforderlich sind außerdem ein rotierender, reaktivgasbeständiger Substrattisch mit einer Heiztemperatur bis mindestens 600 °C, eine Bias-Aufrüstung und motorisierte Blenden. Eine PC-gestützte Steuerung mit programmierbaren Prozessabläufen soll reproduzierbare Beschichtungen und einen hohen Probendurchsatz ermöglichen.

Zum Leistungsumfang gehören die erforderliche Steuerungs- und Computerausstattung einschließlich Software, Lieferung, Installation, Inbetriebnahme, Einweisung des Bedienpersonals, Dokumentation und Garantie.

Umfang der Leistung

Den genauen Leistungsumfang entnehmen Sie bitte den Vergabeunterlagen.